據臺灣《經濟日報》報道，臺積電2納米制程將于2025年量產，外界看好進度可望領先對手三星及英特爾。

臺積電研究發展資深副總經理米玉杰表示，將在2024年取得ASML下世代極紫外光微影設備（high-NA EUV），為客戶發展相關的基礎設施與構架解決方案。臺積電業務開發資深副總經理張曉強則表示，2024年取得設備后，初期主要用于與合作伙伴共同研究，尚不會量產。

臺積電推出的采用納米片晶體管構架的2納米制程技術，在相同功耗下較3納米速度快10%至15%，在相同速度下功耗降低25%至30%，應用包含行動運算、高性能版本及完備的小芯片整合解決方案。

來源：界面新聞