據臺灣《經濟日報》報道,臺積電2納米制程將于2025年量產,外界看好進度可望領先對手三星及英特爾。
臺積電研究發展資深副總經理米玉杰表示,將在2024年取得ASML下世代極紫外光微影設備(high-NA EUV),為客戶發展相關的基礎設施與構架解決方案。臺積電業務開發資深副總經理張曉強則表示,2024年取得設備后,初期主要用于與合作伙伴共同研究,尚不會量產。
臺積電推出的采用納米片晶體管構架的2納米制程技術,在相同功耗下較3納米速度快10%至15%,在相同速度下功耗降低25%至30%,應用包含行動運算、高性能版本及完備的小芯片整合解決方案。
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